募捐 9月15日2024 – 10月1日2024 关于筹款

Технология кремниевой наноэлектроники

Технология кремниевой наноэлектроники

Данилина Т.И., Кагадей В.А., Анищенко Е.В.
你有多喜欢这本书?
下载文件的质量如何?
下载该书,以评价其质量
下载文件的质量如何?
Учебное пособие. Томск, В-Спектр, 2011, 263 с.
В учебное пособие включено описание новых технологических процессов, которые составляют основу современного производства сверхбольших интегральных схем (СБИС) и других устройств кремниевой наноэлектроники. К таким процессам относятся субмикронная литография, ионное легирование, быстрый термический отжиг, ионное и плазмохимическое травление наноструктур, атомно-слоевое и ионно-плазменное осаждение металлов и диэлектриков, химико-механическая планаризация. Изложены технологические маршруты формирования СБИС.
Пособие предназначено для слушателей программы переподготовки в области промышленного производства наногетероструктурных монолитных интегральных схем СВЧ-диапазона и дискретных полупроводниковых приборов, а также может быть использовано при подготовке студентов, обучающихся по направлению «Электроника и наноэлектроника», «Нанотехнология», «Нанотехнология и микросистемная техника».
Учебное пособие будет полезно при подготовке магистров по программам «Твердотельная электроника» и «Наногетероструктурная СВЧ-электроника».
语言:
russian
ISBN 10:
5911912031
ISBN 13:
9785911912031
文件:
PDF, 3.69 MB
IPFS:
CID , CID Blake2b
russian0
线上阅读
正在转换
转换为 失败

关键词